DLC硬质涂层真空设备

DLC 硬质涂层真空设备

设备用途

设备用途应用产品
模具塑料射出模具(含精密及光学模具).塑料加纤射出模具.粉末冶金模具.冲压模具.铝挤型模具
切削刀具适合用来加工铝/镁铝合金、铜合金、铅合金、陶瓷、碳化钨、含碳材料(石墨、塑料及复合材料、橡胶)等
光学相关眼镜镜片、相机镜头、锗、硫化锌等红外线材料、飞弹弹头等红外线光窗
计算机数据储存光盘、硬盘
封装电子及光电组件的封装或散热组件
生医人工关节(臀关节、膝关节、手肘)、心脏瓣膜、手术用的解剖刀及血导管、胃管、呼吸管等
其他化学药品贮藏槽之内壁、喷嘴、眼膜、射出机螺杆、刹车线、轴承、滑轨、轴承钢珠、传动机件

设备组成

  • 机台尺寸:W2200×D3300×H2100mm(可按客户要求重新设计)
  • 有效镀膜空间:φ480×H650mm(可按客户要求重新设计)
  • 最大工作空间:W3900×D6300×H2600(前方建议净空,方便出入炉)
  • 最大载重:500kg
  • 真空系统标配有涡轮分子泵
  • 等离子蚀刻,气体离子蚀刻清洁(Ar);辉光放电
  • MF Bias 偏压供给(10kW)
  • 3气体通道;3组MFC 控制器(2组气体流量控制器;1组液体流量控制器)
  • 电力连接:3φ+Ground 380/400V 100A 50/60Hz
  • 冷却水:18~22℃ 大于3kgf/cm2 200L/min
  • CDA:除水除油 大于 6kg/cm2

技术指标

镀膜设备基本规格与性能

  • 八边型不锈钢真空腔体,循环式水冷保护
  • 搭载进口超高真空涡轮泵,可抽真空至10-6Torr
  • 搭配一台产生等离子体用电源供应器
  • 一般单一制程5-6小时,可制备单层DLC膜层2-3μm(可根据客户要求增加速度至10um/小时,增加单层DLC厚度至数百微米)
  • 制程沉积温度<250℃
  • 特殊类钻碳镀膜技术
    • 专用药水约300±20炉次/瓶(视镀膜厚度状况而定)
    • 膜层与基材优异的结合力,颠覆单层DLC附着性不佳之刻板印象
    • 光滑且细致的膜层表面
    • 膜层性质可通过参数调整
    • 典型的沉积速率1.0μm/小时(可根据客户要求增加至10um/小时左右)
  • 8轴之3转公自转机构,可大幅提升系统批次产量与镀层真圆度
  • PLC+PC base 自动化控制系统,全自动镀膜生产,可远程网络诊断及程序除错

DLC镀膜性质

  • 高硬度(extreme hardness): HV 1800-3000
  • 耐腐蚀性佳(chemical inertness)
  • 表面平滑(smooth surface): Ra <0.2nm
  • 摩擦系数小(low friction coefficient):~0.01
  • 电绝缘性佳(high electrical resistivity)
  • 低表面能(low surface energy)
  • 膜致密度高(high density)
  • 热传导性佳(high thermal conductivity)
  • 生物兼容性佳(biocompatibility)
  • 可透IR及可见光(transparent in IR and visible rang)
  • 能在低温下生长(low temperature deposition):< 100℃
  • 使用温度可达250℃

DLC单层膜

可制备细致且致密的DLC镀膜

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